钢研纳克Plasma 1500单道扫描ICP光谱仪可广泛适用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
1 单道扫描ICP光谱仪采用大面积高刻线密度平面全息光栅，Czerny-Turner结构光学系统，通光量大，分辨率高。
2 双光栅设计，整个波长分布范围内均具有极高光谱分辨率，国产ICP光谱仪设计。
3 高效稳定的固态射频发生器，固态光源ICP光谱仪体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。
4 双通道高灵敏PMT检测器，宽动态范围信号处理技术，具有优异的检测能力。紫外光谱范围内自动切换使用紫外PMT。
5 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

纳克重大科学仪器专项成果全谱ICP亮相
仪器信息网讯 2013年10月23~26日的BCEIA 2013期间，钢研纳克展出了所承担的国家重大科学仪器设备开发专项的研制成果——二维全谱高分辨ICP光谱仪PLASMA CCD。就这款新品的情况等问题，仪器信息网编辑采访了钢研钠克副总经理杨植岗博士。
在2011年的BCEIA上，编辑就曾采访过杨植岗博士，当时也曾谈到这款全谱ICP光谱仪，不过那时展出的还只是一台原理样机。两年的时间过去了钢研纳克二维全谱高分辨ICP光谱仪已经实现了商品化。
BCEIA 2011到BCEIA 2013，样机到商品化
杨植岗博士说到，“新产品从研发开始，到原理机研制成功，再到实现商品化，要经历一个较为漫长的过程，特别是针对科学仪器而言，产品在推向市场之前必须经过层层把关，不允许任何一个不良产品产生，就象金国藩院士所说“分析仪器是现代社会的物化法官”。某种层面上它承载着极为严峻的任务，这个意义不言而喻，谁都马虎不得”。
“本次展出的二维全谱高分辨率ICP光谱仪经验证，完全符合国家ICP光谱仪的计量标准，在长期稳定性和短期精度方面我们做了大量的测试和比对工作，测试结果喜人。目前该产品处于点对点的推广试用阶段，在这个过程中，我们将根据掌握的具体问题，对仪器进行品质提升，力求在大面积推广时更好的满足客户的需要”。
据介绍，PLASMA CCD的特点主要有：连续波长覆盖(165~800nm)，独特光学设计使得光学系统具有的分辨率(在200nm处£0.007nm)和检出限；固态射频发生器，自动调节，适应各种样品类型；科研及大面积CCD，具有低噪声、高灵敏度和宽动态范围的特点，动态时钟系统，所有元素一次测定；稳定波长控制技术，全元素波长自动标定;软件操作简便，直观、功能全面，具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能；同时具备激光烧蚀固体进样和溶液进样功能。
应用——需要花大力气去做
PLASMA CCD这款新品可用于金属材料、地质矿产、环境、食品等领域样品的多元素的同时、快速、准确测定。
“如果在国家计量标准要求的样品测试条件下进行检测，我们这台仪器的整体表现与国际先进的同类仪器处在同一个水平线上。”杨植岗说到，“而对于复杂样品，有一些特殊要求的，还需要经过大量的应用研究。对于不同的应用领域，每一个仪器的表现是不同的，所以，后续我们将在应用开发方面花大力气去做。今后我们将与环境、食品领域的一起事业单位以及相关科研院所展开深入合作。”
“目前ICP光谱的标准方法不多，相关的检测标准还是以AAS为主，这制约了ICP光谱市场的发展，也就要求不断开发ICP光谱的应用方法。”
目标——国产仪器里做到市场占有率
“钢研纳克的愿景是做分析测试领域的引领者、推动者。我们的理念是生产高端的仪器、开发高端的应用、提供高端的服务。当然这很有难度，方方面面需要我们不断努力，一步步来。”
“尽快服务于客户是我们的宗旨，钢研纳克一直关注工业检测，与工业化大生产联系比较紧密，用户要求仪器厂商的响应速度要快。我们已经将服务点设到了各个地区，遍布大部分省会城市，并逐步向地级市扩展，未来钢研纳克将为客户提供更为优质、便捷的产品和服务。”
钢研纳克检测技术有限公司是中国钢研科技集团有限公司的全资子公司。
钢研纳克主体业务涉及第三方检测服务(含金属材料化学成份检测、力学性能检测、材料失效分析、无损检测、计量校准)、分析测试仪器及无损检测设备的研制和销售、腐蚀防护产品及相关工程、标准物质/样品、检测能力验证等领域。是国内金属材料分析测试领域服务商。

干货分享！钢研纳克国产ICP应用技术培训班，厉害了！
2019年11月29日，由钢研纳克检测技术股份有限公司仪器中心主办的“国产ICP应用技术培训班暨钢研纳克ICP老用户交流会”在宁波泛太平洋酒店举行，钢研纳克宁波地区ICP新老用户受邀参加了此次培训。
钢研纳克仪器中心副总经理于兆斌在培训班开幕式上致贺词，欢迎宁波地区客户参加此次培训，同时介绍了钢研纳克的公司背景与发展近况，希望以公司上市为契机，更好的做好服务用户的工作，促进行业检测水平的提高。
会议由钢研纳克华东二区销售总监许顶主持，钢研纳克ICP资深产品经理屈华阳做了ICP基本原理与产品介绍的报告。ICP产品资深售后工程师唐晓林做了ICP操作维护和国产ICP在钕铁硼检测方法解读的报告，重点介绍了钕铁硼检测标准方法（钢研纳克参与制定），包括溶样过程，配线技巧，建议谱线，检测注意事项，仪器性能对比等内容，同时为行业用户提供了钕铁硼行业常用的原辅料的检测方法。
钢研纳克售后工程师崔朝辉做了“磁性材料中ONH元素的检测”的报告，实战分享钕铁硼中O,H 元素的检测方法和技巧。同时，标准物质事业部标液研发主管 李海平，分享了标准溶液的制作过程，干扰元素影响判别的一般方法，为客户日常检测提供了一种实用方法和技巧，同时为行业用户提供了钕铁硼行业常用的原辅料的检测方法。
培训答疑环节，现场气氛非常热烈。参会人员表示，通过此次培训，不但更深入地学习了ICP技术原理，了解了国产ICP的快速发展和进步，更学到了非常实用的检测方法，解决了工作中遇到的困惑和问题。培训结束后，学员学习热情不减，利用会议间隙向老师咨询检测方法，将学习交流延伸到课堂之外。

Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量
关键词
Plasma 3000，Plasma 2000，工业硅，耐氢氟酸进样系统
国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定，检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分：杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试，检测结果与客户化学法基本一致。
仪器特点
Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪（钢研纳克检测技术股份有限公司）是使用方便、操作简单、测试快速的全谱ICP-OES分析仪，具有良好的分析精度和稳定性。
Plasma3000
Ø 高效固态射频发生器，超高稳定光源；
Ø 大面积背照式CCD芯片，宽动态范围；
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，体积小巧；
Ø 多元素同时分析，全谱瞬态直读。
Ø 多种进样系统，可选择性好；
Ø 垂直炬管，双向观测，检出限更加理想；
Plasma2000
Ø 高效固态射频发生器，超高稳定光源；
Ø 大面积背照式CCD芯片，宽动态范围；
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，体积小巧；
Ø 多元素同时分析，全谱瞬态直读；
Ø 多种进样系统，可选择性好；
Ø 垂直炬管水平观测，耐盐性更佳。
样品前处理
1. Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Mn、P、Na、Ti含量测定：
Ø 称取1g样品，放置于250mL聚四氟乙烯烧杯，用少许水清洗杯壁并润湿样品；
Ø 分次加入15mL～20mL氢氟酸，待反应停止后加滴加硝酸至样品完全溶解，然后加入3mL高氯酸，加热冒高氯酸烟，待高氯酸白烟冒尽，取下冷却。
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸，用少许水洗杯壁，加热使残渣完全溶解，冷却至室温，转移至50mL塑料容量瓶中，用水稀释至刻度，摇匀；
Ø 随同做空白实验。
2. B含量测定
Ø 称取1g样品，放置于250mL聚四氟乙烯烧杯，用少许水清洗杯壁并润湿样品；
Ø 分次加入15mL～20mL氢氟酸，待反应停止后，滴加硝酸至样品完全溶解，过量1mL，待反应停止后，加热至近干（控制温度低于140℃），取下冷却；
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸低温溶解残渣（温度低于80℃），待样品完全溶解后，冷却至室温，转移至50mL塑料容量瓶中，用水稀释至刻度，摇匀。
Ø 随同做空白实验。
注：
1) 工业硅中有些元素含量超低，使用试剂和水需要高纯，器皿清洁；
2) 标准溶液配置时注意介质干扰，建议P、Na、B单独配置；
3) 测量时，采用耐氢氟酸进样系统；
4) 样品溶解时，氢氟酸用量较大，注意器皿采用聚四氟乙烯和塑料；
标准曲线配置
标准溶液配置时，可以先配置100μg/mL混合标准溶液，配置时按下表1加入体积数配置曲线。
表1 标准曲线配置
注：
1) 标准溶液配置时注意介质干扰，建议P、Na、B单独配置，浓度梯度同上表；
2) 配置曲线时，酸度和样品保持一致；
元素分析谱线
实验考虑各待测元素谱线之间的干扰及基体干扰，并选择合适的扣背景位置，经实验，本文选择分析谱线如下表2所示。
表2 各元素分析谱线及线性系数
测试结果
1. 标准样品测试结果、精密度与回收率
按照方法，测试了标准样品金属硅FjyJ0401，同时加入100微克做回收率实验，实验结果如表3所示。回收率在98.75%～106.93%，结果令人满意。
表3 实验结果、精密度和回收率(n=11)
2. 样品比对实验
采用Plasma2000型和Plasma3000型仪器测量客户考察样品，与客户化学法比对，结果如表4所示。通过比对，仪器测定值与化学法基本一致。
表4 结果比对
注：“-” 客户未提供化学法检测数据
结论
使用Plasma3000和Plasma2000能够很好的解决工业硅中杂质元素分析问题，完全满足国家标准GB/T2881-2014《工业硅》和GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分：杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》要求。