客服
米
单位
Si
成分
3N
纯度
旋转靶/平面靶
规格
吴经理
点击拨打
主营： 热敏电阻/NTC | 光学镀膜材料 | 陶瓷滤波器
安徽省合肥市
喷涂硅靶材 Spray Si Target
产品说明Product description
以等离子体为热源，在真空环境，或负压氮气或氩气保护环境下将Si粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度Si靶材。
With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density Si targets are produced from Si powder. The Si powder is heated to molten or semi-molten state in vacuum or at a negative pressure of nitrogen (N2) or argon (Ar) and deposited on the surface of backing tube at high speed to form dense coatings.
产品特点Products feature
项目 Item | 参数 Specifications | 检测手段 Testing method |
纯度Purity（Si+B） | ≥ 99.99% |
|
密度Density | ≥2.2 g/cm3 | 阿基米德密度仪 Archimedes densimeter |
杂质含量Inclusions | Fe +Al+Ca: ≤50 ppm B: ≤100 ppm O: ≤2000 ppm N: ≤500 ppm 杂质总和(O、N、B除外): ≤100 ppm Total impurity (excluding O, N, B ): ≤100 ppm | ICP |
电阻率 Electrical resistivity | ≤10Ω·cm | 四探针电阻率仪 Four probe resistivity meter |
背管材质 Backing tube
-选用304/316L不锈钢（无磁）。
靶材尺寸Dimension
-按照图纸要求加工
According to customized drawings.
应用领域Applications
-用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之AR膜系，Low-E镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏。
For deposition of SiO2/Si3N4 films, for optical glasses, AR films of touch panel screens, Low-E glasses, semiconductor devices and flat panel screens.
纳米级 高纯4~6N 3C陶瓷粉体 氧化镓/氧化钇粉体
高纯氧化铌靶材/粉体 太阳能电池镀膜材料 可按图纸定制
氧化钛/氧化锆靶材 高纯4~6N low-E玻璃镀膜 可定制
高纯硅靶材/粉体 3~6N LOW-E玻璃喷涂靶材 可定制
AR膜系 硅铝靶材 高纯3~6NSiAI low-E镀膜玻璃材料 可定制
浇铸靶材 锌铝/锌锡合金靶材 真空溅射镀膜材料 高纯可定制
纳米级 高纯4~6N 3C陶瓷粉体 氧化镓/氧化钇粉体
高纯氧化铌靶材/粉体 太阳能电池镀膜材料 可按图纸定制
氧化钛/氧化锆靶材 高纯4~6N low-E玻璃镀膜 可定制
AR膜系 硅铝靶材 高纯3~6NSiAI low-E镀膜玻璃材料 可定制
高纯硅靶材/粉体 3~6N LOW-E玻璃喷涂靶材 可定制
浇铸靶材 锌铝/锌锡合金靶材 真空溅射镀膜材料 高纯可定制
*采购数量： 根
采购数量不能为空
*联系信息：
联系信息不能为空
公司名称：
采购说明：
验证码不正确
