日本Savina ck无尘布超细纤维无尘布Savina mx无尘擦拭布minimax无尘布

Savina MX超细纤维无尘布

日本原装正品

Savina Minimax无尘擦拭布

Savina MX用于轻松应对时代的需求，同时具备足以应对要求高的洁净室中的极，限无尘条件的出色功能.

Savina Minimax是日本KBSEIREN株式会社（原KANEBO）开发的目前较高级的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极，强，不磨损原件。广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。

高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina MX能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超，级无尘室中的极，端无尘条件。

Savina ck用于轻松应对时代的需求，同时具备足以应对要求高的洁净室中的极，限无尘条件的出色功能.是日本KBSEIREN株式会社（原KANEBO）开发的目前较高级的无尘擦拭布系列产品，吸水吸油性极，强，不磨损原件。广泛用于光学镜头制造，办公器材保养，10级以上的无尘车间净化室，半导体生产线车间等领域。高科技领域正日益精密和复杂。对于LSI和LCD等产品生产过程中所需的严格无尘环境而言，高效擦拭布是必备要素。Savina CK能够轻松满足时代需求，具有出色的功能，足以应对超，级无尘室中的极，端无尘条件。

无尘室中所使用的擦拭布应当能够清洁所有仪器、器械和外围设备，同时不会造成污染。擦拭布还要能够吸收并清除多余的水分。Savina CK具备此类擦拭布所需的所有属性，是性能较好的擦拭布之一，专为高科技时代而设计。

Savina MX在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/gSavina CK在专门的细针距针织机上编制而成，其坯布横向和纵向的收缩率均达到其原始尺寸的40%。它未经任何粘合剂处理，就达到了这样的致密结构。所得擦拭布表面积高达25,700 c㎡/g，从而确保了在不掉毛的情况下清除灰尘。而传统擦拭布的表面积仅为2,420 c㎡/g

特点是：掉毛量极少。• 迅速而积极地吸收并留住水分。• 残留离子和其他物质的溶解率较低。• 具备高端的擦拭布性能（灰尘清除量较大，同时不会污染无尘室设备）。

用途：光磁盘、硬盘和软盘的生产过程• 液晶偏转板以及其他物品的生产过程• 光盘和磁盘的生产过程• 录像机的生产过程• 隐形眼镜的生产过程• 相机装配线• 印刷电路板的清洁工艺• 相机镜头镀膜前的清洁工艺• 药品生产线清洁工艺• 电影胶片清洁工艺• 半导体和基础电路的生产过程• 精密涂层之前工件的清洁过程

savina ck无尘布