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京迈研2324 金属Hf铪靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研2324 金属Hf铪靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
京迈研2324 金属Hf铪靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

京迈研2324-金属Hf铪靶材-磁控溅射材料-电子束镀膜蒸发料

发货 北京市通州区
参数

京迈研

品牌

2324

型号

金属铪

金属类型

Hf

化学式

主营: 其他氧化物 | 其他无机非金属材料 | 其他有色金属

北京市通州区

京迈研2324   金属Hf铪靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例  重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

铪为银灰色的金属,有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃),其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。金属铪有较高的中子吸收截面,可用作反应堆的控制材料。

晶体结构有两种:在1300℃以下时,为六方密堆积(α-式);在1300℃以上时,为体心立方(β-式)。具有塑性的金属,当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定,灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用,但易溶解在王水和氢氟酸中。在化合物中主要呈+4价。五碳化四钽铪(Ta4HfC5)是已知熔点最高的物质(约4215℃)。

中文名

熔点

2227℃

化学式

Hf

沸点

4602℃

原子量

178.49

密度

13.31克/立方厘米(20℃)

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。


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产品属性
品牌 京迈研
型号 2324
金属类型 金属铪
化学式 Hf
规格 根据要求定制
纯度 99.99
产地 北京
包装 真空包装
是否是危险化学品
用途 磁控溅射镀膜
关 闭
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询价产品: 京迈研2324 金属Hf铪靶材 磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

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