货运及物流
运输方式
全国
可售卖地
150度
耐温
-15μm
聚焦补偿
况经理
主营: 电力、热力生产和供应业
北京市大兴区
下游发展趋势
光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%,并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%到50%。光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4%,市场巨大。因此光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。2016年全球半导体用光刻胶及配套材料市场分别达到14.5亿美元和19.1亿美元,分别较2015年同比增长9.0%和8.0%。预计2017和2018年全球半导体用光刻胶市场将分别达到15.3亿美元和15.7亿美元。随着12寸先进技术节点生产线的兴建和多次曝光工艺的大量应用,193nm及其它先进光刻胶的需求量将快速增加
提供先进化学技术的多样化解决方案
成立于1985年,总部设在美国新泽西州,富兰克林市,高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司
公司业务覆盖范围包括北美,亚太以及欧洲
基于多样化的技术
应用领域:微电子、光电子、LED、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷
解决方案:的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(Barrior Layere)、湿法制程
客户:从财富100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司
使命
目标
提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能
策略
提供独特的产品来优化生产制程,以提高设备能效
领的技术提升生产过程中的整体性价比
工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能
增加客户的产能和生产的效率
工艺减化
非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定
在生产过程中,不含有害溶剂
支持所有客户的需要,与客户共创成功
光刻胶的应用
以下内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。
模拟半导体(Analog Semiconductors)发光二极管(Light-Emitting Diodes LEDs)微机电系统(Microelectromechanical Systems MEMS)太阳能光伏(Solar Photovoltaics PV)微流道和生物芯片(Microfluidics & Biochips)光电子器件/光子器件(Optoelectronics/Photonics)封装(Packaging)
高温光刻胶品牌 Futurrex 双层光刻胶供应商 厚光刻胶生产厂
干膜光刻胶公司 水处理光刻胶公司 Futurrex
Futurrex 导电光刻胶 负性光刻胶公司
Futurrex 水性光刻胶公司 固体光刻胶
国产光刻胶公司 Futurrex 固体光刻胶品牌
低温光刻胶公司 Futurrex 水性光刻胶品牌
Futurrex 导电光刻胶 负性光刻胶公司
干膜光刻胶公司 水处理光刻胶公司 Futurrex
国产光刻胶公司 Futurrex 固体光刻胶品牌
Futurrex 水性光刻胶公司 固体光刻胶
低温光刻胶公司 Futurrex 水性光刻胶品牌
金属光刻胶品牌 光刻胶品牌 Futurrex
*采购数量: 件
采购数量不能为空
*联系信息:
联系信息不能为空
公司名称:
采购说明:
验证码不正确