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气相外延炉进口清关需要什么资料 港桥进口设备报关行
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气相外延炉进口清关需要什么资料-港桥进口设备报关行

发货 江苏省苏州市
参数

港桥

品牌

全国

操作口岸

半导体设备清关

服务范围

2-3天

报关时效

主营: 商检报关 | 清关服务 | 国际空运

江苏省苏州市

气相外延炉进口清关需要什么资料 港桥进口设备报关行

常见的半导体晶圆设备型号
1、单晶炉
设备名称单晶炉。海关编码8486109000关税税率0% 率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
德国PVA TePla AG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUM DESIGN公司、德国Gero公司、美国KAYEX公司。
2、气相外延炉
商品名称气相外延炉 海关编码8486202100关税税率0% 率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
美国CVD Equipment公司、美国GT公司、法国Soitec公司、法国AS公司、美国ProtoFlex公司、美国科特?莱思科(Kurt J.Lesker)公司、美国Applied Materials公司。
3、分子束外延系统(MBE,Molecular Beam Epitaxy System)
商品名称分子束外延系统 海关编码8486202900关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
法国Riber公司、美国Veeco公司、芬兰DCA Instruments公司、美国SVTAssociates公司、美国NBM公司、德国Omicron公司、德国MBE-Komponenten公司、英国Oxford Applied Research(OAR)公司。
4、氧化炉(VDF)
商品名称分子束外延系统
海关编码8417809090关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
条件
6旧机电产品禁止进口
O自动进口许可证(新旧机电产品)
A入境货物通关单
主要企业()
国际英国Thermco公司、德国Centrothermthermal solutions GmbH Co.KG公司。
5、低压化学气相淀积系统(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deition System)
设备名称低压化学气相淀积系统
主要企业()
国际日本国际电气公司、



6、等离子体增强化学气相淀积系统(PECVD,Plasma Enhanced CVD)
商品名称等离子体增强化学气相淀积系统
海关编码8486202100关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号



7、磁控溅射台(MagnetronSputter Apparatus)
商品名称磁控溅射台 海关编码8479899990关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
国际美国PVD公司、美国Vaportech公司、美国AMAT公司、荷兰Hauzer公司、英国Teer公司、瑞士Platit公司、瑞士Balzers公司、德国Cemecon公司。
8、化学机械抛光机(CMP,Chemical Mechanical Planarization)
商品名称化学机械抛光机
海关编码8486909900关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
国际美国Applied Materials公司、美国诺发系统公司、美国Rtec公司、。
9、光刻机(Stepper,Scanner)
商品名称光刻机 海关编码8486203100关税税率0%率16%
申报要素1品名 2用途 3功能 型号
主要企业()
荷兰阿斯麦(AL)公司、美国泛林半导体晶圆公司、日本尼康公司、日本Canon公司、美国ABM公司、德国德国SUSS公司、美国MYCRO公司。




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产品属性
品牌 港桥
操作口岸 全国
服务范围 半导体设备清关
报关时效 2-3天
专业属性 进出口报关
报关优势 案例丰富,经验成熟
服务 国际物流,清关派送
专业服务 进口门到门代理
关 闭
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询价产品: 气相外延炉进口清关需要什么资料 港桥进口设备报关行

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