高纯金属蒸发材料

      蒸发作为PVD技术的一种，被广泛应用于半导体行业中的芯片背面金属化工艺，作为专业的PVD薄膜材料供应商，中诺新材可以提供各种规格的全系列高纯金属蒸发材料。同时，这些材料亦广泛应用于精密合金熔炼、高纯化合物制备以及高品质晶体制备等领域。

部分产品如下：

材料纯度(%)状态

高纯铝(Al)99.999-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状  

高纯铜(Cu)99.99-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯钛(Ti)99.5-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯镍(Ni)99.9-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铬(Cr)99.5-99.99颗粒 粉末

高纯钴(Co)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铁(Fe)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯镁(Mg)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铪(Hf)99.95颗粒 粉末 丝状 片状

高纯锆(Zr)99.5-99.95颗粒 粉末 块状

高纯铟(In)99.995-99.9999,颗粒 粉末 丝状 片状

高纯钽(Ta)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状，片状

高纯铌(Nb)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状

高纯铅(Pb)99.99-99.999颗粒 粉末 片状

高纯硒(Se)99.99-99.9999颗粒 粉末

高纯碲(Te)99.99-99.9999颗粒 粉末

高纯锗(Ge)99.9999颗粒 粉末 片状

高纯硅(Si)99.9999颗粒 粉末 片状

高纯锡(Sn)99.99-99.999颗粒 粉末 丝状 片状

高纯锌(Zn)99.99-99.9999颗粒 粉末 片状

氧化铝 Al2O3 99.99 颗粒 粉末

氧化镁 MgO 99.99 颗粒 粉末

氧化钛 TiO TiO2 Ti3O5 99.99 颗粒 粉末 压片

氧化铪 HfO2 99.99 颗粒 粉末 压片

氧化钽 Ta2O5 99.99 颗粒 粉末 压片

氧化铟 In2O3 99.99 颗粒 粉末

氧化硅 SiO SiO2 99.99 99.999 颗粒 粉末

氧化锆 ZrO2 99.99 颗粒 粉末 压片

氧化铌 Nb2O5 99.99 颗粒 粉末

氧化锌 ZnO 99.99 颗粒 粉末 压片

氟化镁 MgF2 99.99 颗粒 粉末

氟化镱 YbF3 99.99 颗粒 压片

氟化钇 YF3 99.99 颗粒 粉末

硫化锌 ZnS 99.99 颗粒 粉末 压片

硒化锌 ZnSe 99.999 颗粒 粉末

钛酸镧 La2O7Ti12 99.99 颗粒

钛酸钡 BaTiO3 99.99 颗粒

钛酸锶 SrTiO3 99.99 颗粒

冰晶石 Na3AlF6 99.99 颗粒

氧化铟锡 ITO 99.99 颗粒 粉末 压片

高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。

1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，加热到其熔点下的某个温度，通过物质迁移完成致密化的过程，最终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。

2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。

3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，在一定温度下被H2还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。